La Dra. Tania Sandoval de la USM ha sido galardonada con el “Thin Film Division Paul Holloway Young Investigator Award” por parte de la American Vacuum Society (AVS).
La Dra. Tania Sandoval, profesora del Departamento de Ingeniería Química y Ambiental de la Universidad Técnica Federico Santa María (USM), recibió este prestigioso premio gracias a su destacada trayectoria científica y su contribución a la investigación en materiales.
Este reconocimiento se entregó durante el simposio internacional anual de la AVS en Charlotte, Carolina del Norte (EE. UU.), y distingue a investigadores jóvenes con menos de siete años desde la obtención de su doctorado que se han destacado en el campo de las películas delgadas y materiales avanzados.
“Es un verdadero orgullo recibir este premio, que reúne a investigadores de alto nivel en las fases iniciales de sus carreras. Esta distinción refleja el trabajo que realizamos en el laboratorio Nanolab junto a mi equipo,” afirmó la Dra. Sandoval, quien es parte de esta reconocida asociación científica desde 2014.
La académica también subrayó que su logro ayuda a resaltar la ciencia chilena:
“Me siento muy contenta de ser la primera mujer en recibir este galardón en un área donde predominan los hombres, especialmente de Estados Unidos y Europa. Este premio también eleva el perfil de la USM y nuestro laboratorio a nivel internacional,” enfatizó.
Investigación chilena con presencia internacional
Durante el evento, la Dra. Sandoval ofreció la charla “Descriptor-driven analysis of inhibitors for AS-ALD processes”, donde presentó los avances de su investigación en control de superficies y deposición selectiva de materiales.
Estuvo acompañada por su equipo del laboratorio Nanolab, Lucas Lodeiro y Matías Picuntureo, quienes también expusieron sus investigaciones. Además, se presentaron dos trabajos realizados en colaboración con la Universidad Técnica de Eindhoven (Países Bajos).
“Hemos mantenido una red internacional activa para colaborar y difundir nuestro trabajo. Este tipo de eventos demuestra que desde Chile se puede realizar ciencia de frontera y recibir reconocimiento internacional,” concluyó la académica.
Sobre la American Vacuum Society (AVS)
La American Vacuum Society es una entidad científica internacional ubicada en EE. UU., que agrupa a más de 4.500 profesionales de los sectores académico, industrial y gubernamental. Promueve la colaboración y el desarrollo del conocimiento en áreas como la ciencia de materiales, superficies, interfaces y nanotecnología a través de sus divisiones técnicas.
Con Información de chilelindo.org
